Y.Mori, H.Kakiuchi, K.Yoshii, K.Yasutake, M.Matsumoto, Y.Ebata: "High-Rate Deposition of Device-Grade amorphous Si By Atmospheric Plasma CVD"Proceedings of the COE International Symposium on Ultraprecision Science and Technology for Atomistic Production E
Y.Mori, H.Kakiuchi, K.Yoshii, K.Yasutake, M.Matsumoto, Y.Ebata: "High-Rate Deposition of Device-Grade amorphous Si By Atmospheric Plasma CVD"Proceedings of the COE International Symposium on Ultraprecision Science and Technology for Atomistic Production E
复制标题
Y.Mori、H.Kakiuchi、K.Yoshii、K.Yasutake、M.Matsumoto、Y.Ebata：“通过大气等离子体 CVD 实现器件级非晶硅的高速沉积”COE 超精密科学与技术国际研讨会论文集
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
