Reactive ion etching of fluorocarbon polymer using stencil mask
Reactive ion etching of fluorocarbon polymer using stencil mask
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使用模板掩模对氟碳聚合物进行反应离子蚀刻
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Minoru SEKI
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Masato MIZUOCHI;Hiroki SHIMADA;Hirofumi NABESAWA;Minoru SEKI
