S.Noda: "Preferred Orientation and Film Structure of TaN Films Deposited by Reactive Magnetron Sputtering"J.Vac.Sci.Technol.A. 23. 332-338 (2004)
S.Noda: "Preferred Orientation and Film Structure of TaN Films Deposited by Reactive Magnetron Sputtering"J.Vac.Sci.Technol.A. 23. 332-338 (2004)
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S.Noda：“反应磁控溅射沉积的 TaN 薄膜的优选取向和薄膜结构”J.Vac.Sci.Technol.A。
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