SILICON CRYSTAL-GROWTH IN A CUSP MAGNETIC-FIELD
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DOI：
10.1016/0022-0248(89)90631-3
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发表时间：
1989-08-01
影响因子：
1.8
通讯作者：
HOSHIKAWA, K
中科院分区：
文献类型：
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作者：
HIRATA, H;HOSHIKAWA, K
