水溶液中の反応を利用した水素終端化シリコン表面の分子修飾とナノ構造形成

水溶液中の反応を利用した水素終端化シリコン表面の分子修飾とナノ構造形成
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利用水溶液中的反应对氢封端硅表面进行分子修饰和纳米结构形成

DOI:
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发表时间:
2003
期刊:
表面 41
影响因子:
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通讯作者:
今西哲士
今西哲士
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Akihito Imanishi;今西哲士

文献摘要

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