水熱法を用いてキュリー温度以下で(001), (110), および(111)SrTiO3 基板上合成し たエピタキシャル(Bi,K)TiO3 薄膜のドメイン構造
水熱法を用いてキュリー温度以下で(001), (110), および(111)SrTiO3 基板上合成し たエピタキシャル(Bi,K)TiO3 薄膜のドメイン構造
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采用低于居里温度的水热法在 (001)、(110) 和 (111)SrTiO3 衬底上合成的外延 (Bi,K)TiO3 薄膜的域结构。
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
舟窪浩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
窪田るりか;舘山明紀;伊東良晴;白石貴久;黒澤実;舟窪浩
