Investigation on Reaction Mechanism of Room-temperature HfO2 Atomic Layer Deposition Using Multiple Internal Reflection Infrared Absorption Spectroscopy
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多次内反射红外吸收光谱研究室温HfO2原子层沉积反应机理
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
F. Hirose
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Kanomata;H. Ohba;P. Pansila;B. Ahmmad;S. Kubota;K. Hirahara;F. Hirose
