K.Furukawa: "In situ FT-IR reflective absorption spectroscopy for characterization of SiO2 thin films from deposited using sputtering-type electron cyclotron resonance microwave plasma" Appl. Surf. Sci.121/122. 228-232 (1997)
K.Furukawa: "In situ FT-IR reflective absorption spectroscopy for characterization of SiO2 thin films from deposited using sputtering-type electron cyclotron resonance microwave plasma" Appl. Surf. Sci.121/122. 228-232 (1997)
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K.Furukawa：“用于表征使用溅射型电子回旋共振微波等离子体沉积的 SiO2 薄膜的原位 FT-IR 反射吸收光谱”Appl。
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