Reversed order hybrid lithography of T-NIL and UVL
Reversed order hybrid lithography of T-NIL and UVL
复制标题
T-NIL 和 UVL 的逆序混合光刻
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Scheer
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Dhima;C. Steinberg;A. Mayer;Si Wang;S. Möllenbeck;H. Scheer
