Control of Surface Chirality of Cu Films by Galvanostatic Magnetoelectrodeposition
Control of Surface Chirality of Cu Films by Galvanostatic Magnetoelectrodeposition
复制标题
恒电流磁电沉积控制铜膜表面手性
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
茂木 巖
中科院分区：
文献类型：
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作者：
林真人;西山雅祥;風山祐輝;豊田太郎;滝口金吾;茂木 巖;西山雅祥;茂木 巖;西山雅祥;茂木 巖;茂木 巖
