Effect of V-pits on the property of GaN epilayer grown by metalorganic chemical vapor deposition
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V坑对有机金属化学气相沉积GaN外延层性能的影响
DOI：
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发表时间：
2018
影响因子：
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通讯作者：
Dabing Li
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yinghao Fu;Xiaojuan Sun;Jianwei Ben;Ke Jiang;Yuping Jia;Henan Liu;Zhiming Li;Dabing Li
