Nearly amorphous to epitaxial growth of aluminum nitride films
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DOI：
10.1016/j.diamond.2004.01.015
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发表时间：
2004-09
影响因子：
4.1
通讯作者：
T. Leung;C. Ong
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Leung;C. Ong
