室温静的高圧下における中性子照射高配向性熱分解グラファイトの構造変化
室温静的高圧下における中性子照射高配向性熱分解グラファイトの構造変化
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室温静态高压中子辐照高取向热解石墨的结构变化
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
庭瀬 敬右
中科院分区：
文献类型：
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作者：
中村 周作;市川 優史;藤井 俊治郎;本多 信一;新部 正人;寺澤 倫孝;肥後 祐司; 庭瀬 敬右
