Ar/H2雰囲気中でスパッタ成膜したSnO2薄膜の特性評価
Ar/H2雰囲気中でスパッタ成膜したSnO2薄膜の特性評価
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Ar/H2气氛中溅射沉积SnO2薄膜的特性评价
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小林 翔，渡辺 幸太郎，川口 拓真，石田 哲也，相川 慎也
中科院分区：
文献类型：
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作者：
野寺 歩夢，森 峻;相川 慎也;渡辺 幸太郎，川口 拓真，山口 智広，尾沼 猛義，本田 徹，相川 慎也;森 峻，木菱 完太，山寺 真理，野寺 歩夢，渡辺 幸太郎，鷹野 一朗，相川 慎也;川口 拓真，渡辺 幸太郎，永井 裕己，山口 智広，尾沼 猛儀，本田 徹，相川 慎也;池田 翔，大沢 遼輝，相川 慎也;木菱 完太，山寺 真理，森 峻，相川 慎也;小林 翔，渡辺 幸太郎，川口 拓真，石田 哲也，相川 慎也
