Al_<2x>Ga_<2-2x>O_3 thin film growth by molecular beam epitaxy
Al_<2x>Ga_<2-2x>O_3 thin film growth by molecular beam epitaxy
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分子束外延生长Al_<2x>Ga_<2-2x>O_3薄膜
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
大島孝仁
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takayoshi Oshima;Takayoshi Oshima;Takayoshi Oshima;Takayoshi Oshima;Takayoshi Oshima;大島孝仁;大島孝仁
