In situ Raman monitoring of the growth of diamond films in plasma-assisted CVD reactors
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DOI：
10.1016/0925-9635(94)05249-2
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发表时间：
1995-05
影响因子：
4.1
通讯作者：
M. Mermoux;L. Fayette;B. Marcus;N. Rosman;L. Abello;G. Lucazeau
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Mermoux;L. Fayette;B. Marcus;N. Rosman;L. Abello;G. Lucazeau
