Effect of O2/Ni gas ratio on the epitaxial growth of NiO films by metalorganic chemical vapor deposition
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O2/Ni气体比例对金属有机化学气相沉积外延生长NiO薄膜的影响
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kazuo Uchida and Shinji Nozaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Teuku Muhammad Roffi;Motohiko Nakamura;Kazuo Uchida and Shinji Nozaki
