真空中におけるプラズマによる除電 －真空デバイスプロセスへの適用に向けて－
真空中におけるプラズマによる除電 －真空デバイスプロセスへの適用に向けて－
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在真空中使用等离子体进行静电中和 - 适用于真空设备工艺 -
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
池畑隆
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Okano;T. Ikehata;T. Terashige;Ikehata Takashi;池畑隆
