T.Aoki et al.: "Preparation of higt quality SiNx film by remote plasma CVD using TDMAS" Electrochem.Soc.Proc.97-25. 1207-1214 (1997)
T.Aoki et al.: "Preparation of higt quality SiNx film by remote plasma CVD using TDMAS" Electrochem.Soc.Proc.97-25. 1207-1214 (1997)
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T.Aoki 等人：“使用 TDMAS 通过远程等离子体 CVD 制备高质量 SiNx 薄膜”Electrochem.Soc.Proc.97-25。
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