Preparation of Ag-embedded TiO2 film by reducing metal ions via plasma-enhanced chemical vapor deposition
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等离子体增强化学气相沉积还原金属离子制备嵌银TiO2薄膜
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and M. Shimada
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Lang J. H.;K. Takahashi;M. Kubo;and M. Shimada
