Improvement of Etched Surface of Silicon (110) Plane Using anIodine-supersaturated KOH Etchant
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使用碘过饱和KOH蚀刻剂改善硅(110)面的蚀刻表面
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y.Jing
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Mizugaki;H.Shimada;T.Fujita;T.Fujita et al.;T.Namazu;T.Namazu et al.;瀧尾健一;K.Takio et al.;Y.Jing
