A.M.Wobel, S.Wicramanayaka et al.: "Remote hydrogen plasma chemical vapor deposition of a-SiC: H film from an organosilane molecular cluster as a noval single...." Chemistry of Materials. 7. 1403-1413 (1995)
A.M.Wobel, S.Wicramanayaka et al.: "Remote hydrogen plasma chemical vapor deposition of a-SiC: H film from an organosilane molecular cluster as a noval single...." Chemistry of Materials. 7. 1403-1413 (1995)
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A.M.Wobel、S.Wicramanayaka 等人：“a-SiC 的远程氢等离子体化学气相沉积：来自有机硅烷分子簇的 H 薄膜作为新型单体......”材料化学。
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