表面X線回折法によるIn/Si(111)-(4×1)表面の相転移の研究II
表面X線回折法によるIn/Si(111)-(4×1)表面の相転移の研究II
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表面X射线衍射法研究In/Si(111)-(4×1)表面相变II
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
有賀哲也
中科院分区：
文献类型：
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作者：
八田振一郎;宮本早苗;大坪嘉之;田尻寛男;坂田修身;奥山弘;有賀哲也
