Sputtering with slow highlycharged ions under glancing incidence
Sputtering with slow highlycharged ions under glancing incidence
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掠射下慢速高电荷离子溅射
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kenji Motohashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Sugimoto;T. Namikawa;K. Miki;M.Abe;and S. Morita;Kenji Motohashi
数字存储示波器
DOI：
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发表时间：
1988
期刊：
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影响因子：
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作者：
シブ・クマー・バラクリシュナン;ビクター・リー・ハンセン
通讯作者：
ビクター・リー・ハンセン
DOI：
10.1007/978-3-662-48986-4_312392
发表时间：
2020
期刊：
Springer Reference Medizin
影响因子：
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作者：
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通讯作者：
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