アモルファスSi_<100-x>Te_x薄膜の昇温過程における電気抵抗及び構造変化
アモルファスSi_<100-x>Te_x薄膜の昇温過程における電気抵抗及び構造変化
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非晶Si_<100-x>Te_x薄膜加热过程中的电阻及结构变化
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小池淳一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
齊藤雄太;鎌田俊哉;須藤祐司;小池淳一
