UV 酸化による半導体ニッケル酸化物の作製
UV 酸化による半導体ニッケル酸化物の作製
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紫外氧化法制备半导体氧化镍
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
張東元,小泉淳,内田和男,Ramakrishnan Veerabahu,野崎眞次
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Seki;H.Tabata,H.Ohta,K.Inaba,S.Kobayashi;張東元,小泉淳,内田和男,Ramakrishnan Veerabahu,野崎眞次
