次世代マイクロ波化学プロセスに向けたマイクロ波装置の在り方
次世代マイクロ波化学プロセスに向けたマイクロ波装置の在り方
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下一代微波化学工艺的微波设备的理想状态
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
三谷 友彦
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Marek E. Schmidt;Manoharan Muruganathan;Teruhisa Kanzaki;Takuya Iwasaki;Ahmed M. M. Hammam;Shunei Suzuki;Shinichi Ogawa;Hiroshi Mizuta;三谷 友彦
