Hiroshi Sasaki: "Basic Plasma Properties in a High-Density ICP Etching Apparatus."Proc.of 17^<th> Symp.on Plasma Processing. 125-128 (2000)
Hiroshi Sasaki: "Basic Plasma Properties in a High-Density ICP Etching Apparatus."Proc.of 17^<th> Symp.on Plasma Processing. 125-128 (2000)
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Hiroshi Sasaki：“高密度 ICP 蚀刻设备中的基本等离子体特性。”Proc.of 17^<th> Symp.on 等离子体处理。
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