ポストアニール法により構築したNd_2NiO_<4+δ>/YSZヘテロエピタキシヤル系の諸特性
ポストアニール法により構築したNd_2NiO_<4+δ>/YSZヘテロエピタキシヤル系の諸特性
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后退火法构建的Nd_2NiO_<4+δ>/YSZ异质外延体系的性能
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
上原牧子
中科院分区：
文献类型：
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作者：
清原 健司;杉野 卓司;竹内 一郎;向 健;安積 欣志;上原牧子
