2段集束レンズTEMを用いたNBDによるSiGeと歪Siの面間隔評価
2段集束レンズTEMを用いたNBDによるSiGeと歪Siの面間隔評価
复制标题
使用两级聚焦透镜 TEM 通过 NBD 评估 SiGe 和应变 Si 之间的晶面间距
DOI：
--
复制
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
山中淳二,小國琢弥,佐野雄一,大島佑介,各川敦史,原康祐,有元圭介
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
K. Niwase;W. Nakamura;T. Kitazume;S. Fujii;S. Honda;M. Niibe;M. Terasawa;Y. Higo;Y. Sato;山中淳二,小國琢弥,佐野雄一,大島佑介,各川敦史,原康祐,有元圭介
