炭素イオンおよび重水素イオン同時照射におけるタングステン中の水素同位体滞留挙動
炭素イオンおよび重水素イオン同時照射におけるタングステン中の水素同位体滞留挙動
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碳离子和氘离子同时辐照下钨中氢同位素保留行为
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
吉河朗
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Yoshikawa;et al.;Takashi Iida;酒井秀紀;飯田崇史;富沢直也;吉河朗;富沢真也;藤井拓人;吉河朗
