Y.Hishida et al.: "Excimer laser Annealing of Ion-Implanted 6H-Silicon Carbide"Mater. Sci. Forum. 338/342. 873-876 (2000)
Y.Hishida et al.: "Excimer laser Annealing of Ion-Implanted 6H-Silicon Carbide"Mater. Sci. Forum. 338/342. 873-876 (2000)
复制标题
Y.Hishida等人：“离子注入6H-碳化硅的准分子激光退火”材料。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
