A first-principles study of oxidation pattern in magic Si7 cluster
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DOI：
10.1016/j.cplett.2006.08.072
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发表时间：
2006-10
影响因子：
2.8
通讯作者：
Q. Zang;Z. Su;W. Lu;C. Wang;K. Ho
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Q. Zang;Z. Su;W. Lu;C. Wang;K. Ho
