Gas adsorption properties of fluorocarbon thin films prepared by three different types of r.f. magnetron sputtering systems
Gas adsorption properties of fluorocarbon thin films prepared by three different types of r.f. magnetron sputtering systems
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三种不同类型射频制备的氟碳薄膜的气体吸附性能
DOI：
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发表时间：
2010
影响因子：
1.5
通讯作者：
K.Noda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S.Iwamori;N.Hasegawa;S.Yano;K.Noda
