Strain Evaluation of Laser-annealed SiGe Thin Layers
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激光退火 SiGe 薄层的应变评估
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and A. Ogura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Komago;T. Murakami;K. Yoshioka;R;Yokogawa;J. O. Borland;T. Kuroi;T. Tabata;K. Huet;N. Horiguchi;and A. Ogura
