Refractive index enhancement by rf-plasma assistance in reactive dc and pulsed dc sputter deposition of Ta2O5 and TiO2 films
Refractive index enhancement by rf-plasma assistance in reactive dc and pulsed dc sputter deposition of Ta2O5 and TiO2 films
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通过射频等离子体辅助 Ta2O5 和 TiO2 薄膜的反应直流和脉冲直流溅射沉积提高折射率
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Eiji Kusano
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Sakamoto;E. Kusano;坂上拓哉，中村一貴，稲葉駿介，坂本宗明，草野英二;Eiji Kusano
