K.Sakiyama, T.Hara and T.Onda: "Arsenic Ion Implantation into SIMOX Layrs" J.Electrochem.Soc.Vol.143, No.3. 67-69 (1996)
K.Sakiyama, T.Hara and T.Onda: "Arsenic Ion Implantation into SIMOX Layrs" J.Electrochem.Soc.Vol.143, No.3. 67-69 (1996)
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K.Sakiyama、T.Hara 和 T.Onda：“砷离子注入 SIMOX Layrs”J.Electrochem.Soc.Vol.143，No.3。
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