Barrier Properties of thin TaWN films in Cu(111)/TaWN/Si systems
Barrier Properties of thin TaWN films in Cu(111)/TaWN/Si systems
复制标题
Cu(111)/TaWN/Si 体系中 TaWN 薄膜的势垒性能
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and M. Yasuda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. B. Takeyama;M. Sato;and M. Yasuda
