N.Takahashi, et al.: "Optical Response of Tin Nitride Thin Films Prepared by Halide Chemical Vapor Deposition under Atmospheric Pressure"J.Electronic Materials. 32. 268-270 (2003)
N.Takahashi, et al.: "Optical Response of Tin Nitride Thin Films Prepared by Halide Chemical Vapor Deposition under Atmospheric Pressure"J.Electronic Materials. 32. 268-270 (2003)
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N.Takahashi 等人：“大气压下卤化物化学气相沉积制备的氮化锡薄膜的光学响应”J.Electronic Materials。
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