TPR-XAFS測定を用いたレニウム修飾イリジウム触媒の界面形成過程と活性点構造の解明

TPR-XAFS測定を用いたレニウム修飾イリジウム触媒の界面形成過程と活性点構造の解明
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利用 TPR-XAFS 测量阐明铼改性铱催化剂的界面形成过程和活性位点结构

DOI:
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发表时间:
2013
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
天田靖史・田村正純・中川善直・奥村和・冨重圭一
天田靖史・田村正純・中川善直・奥村和・冨重圭一
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Y. Amada;H. Watanabe;M. Tamura;Y. Nakagawa;K. Okumura and K. Tomishige;天田靖史・田村正純・中川善直・奥村和・冨重圭一

文献摘要

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