In-situ ellipsometric monitor with layer-by-layer analysis for precise thickness control of EUV multilayer optics
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DOI：
10.1016/j.tsf.2006.07.068
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发表时间：
2006-11
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
T. Tsuru;Masaki Yamamoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Tsuru;Masaki Yamamoto
