室温レーザーアニールによるβ-Ga2O3薄膜の固相エピタキシーに与えるNiOバッファ層の影響
室温レーザーアニールによるβ-Ga2O3薄膜の固相エピタキシーに与えるNiOバッファ層の影響
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NiO缓冲层对室温激光退火β-Ga2O3薄膜固相外延的影响
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
吉本 護
中科院分区：
文献类型：
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作者：
中村稀星;内田啓貴;土嶺信男;小山浩司;金子 智;松田晃史;吉本 護
