K. Saito, M. Matsuda, M. Yasutake, T. Hattori: "Electron Tunneling through Chemical Oxide of Silicon" Japanese Journal of Applied Physics. 34. L609-L611 (1995)
K. Saito, M. Matsuda, M. Yasutake, T. Hattori: "Electron Tunneling through Chemical Oxide of Silicon" Japanese Journal of Applied Physics. 34. L609-L611 (1995)
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K. Saito、M. Matsuda、M. Yasutake、T. Hattori：“通过硅化学氧化物的电子隧道”日本应用物理学杂志。
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