Ordered Structure in the Thermal Oxide Layer on Silicon Substrates
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硅衬底上热氧化层的有序结构
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K.Nakamura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Shimura;E.Mishima;H.Watanabe;K.Yasutake;M.Umeno;K.Tatsumura;T.Watanabe;I.Ohdomari;K.Yamada;S.Kamiyama;Y.Akasaka;Y.Nara;K.Nakamura
