Deep learning for electron and scanning probe microscopy: From materials design to atomic fabrication
Deep learning for electron and scanning probe microscopy: From materials design to atomic fabrication
复制标题
电子和扫描探针显微镜的深度学习：从材料设计到原子制造
DOI：
10.1557/s43577-022-00413-3
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
5
通讯作者：
Randall, John
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Kalinin, Sergei V.;Ziatdinov, Maxim;Spurgeon, Steven R.;Ophus, Colin;Stach, Eric A.;Susi, Toma;Agar, Josh;Randall, John
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影响因子：
17.1
作者：
Rashidi, Mohammad;Wolkow, Robert A.
通讯作者：
Wolkow, Robert A.
影响因子：
13.6
作者：
Alldritt, Benjamin;Hapala, Prokop;Foster, Adam S.
通讯作者：
Foster, Adam S.
影响因子：
3
作者：
Mastronarde, DN
通讯作者：
Mastronarde, DN
DOI：
10.1016/j.matt.2021.06.036
发表时间：
2021-07
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
E. Stach;Brian L. DeCost;A. Kusne;J. Hattrick-Simpers;Keith A. Brown;Kristofer G. Reyes;Joshua Schrier;S. Billinge;T. Buonassisi;Ian T Foster;Carla P. Gomes;J. Gregoire;Apurva Mehta;Joseph H. Montoya;E. Olivetti;Chiwoo Park;E. Rotenberg;S. Saikin;S. Smullin;V. Stanev;B. Maruyama
通讯作者：
E. Stach;Brian L. DeCost;A. Kusne;J. Hattrick-Simpers;Keith A. Brown;Kristofer G. Reyes;Joshua Schrier;S. Billinge;T. Buonassisi;Ian T Foster;Carla P. Gomes;J. Gregoire;Apurva Mehta;Joseph H. Montoya;E. Olivetti;Chiwoo Park;E. Rotenberg;S. Saikin;S. Smullin;V. Stanev;B. Maruyama
影响因子：
4.6
作者：
Kaufmann K;Lane H;Liu X;Vecchio KS
通讯作者：
Vecchio KS