Fumio Yoshizawa, Kunihiro Shiota, and Jun-ichi Hanna: "Direct Nucleation of Crystalline SiGe on Substrate by Reactive Thermal CVD with Si2H6 and GeF4" Proc.Mat.Res.Soc.467. 349-354 (1997)
Fumio Yoshizawa, Kunihiro Shiota, and Jun-ichi Hanna: "Direct Nucleation of Crystalline SiGe on Substrate by Reactive Thermal CVD with Si2H6 and GeF4" Proc.Mat.Res.Soc.467. 349-354 (1997)
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Fumio Yoshizawa、Kunihiro Shiota 和 Jun-ichi Hanna：“通过使用 Si2H6 和 GeF4 的反应热 CVD 在基板上直接成核晶体 SiGe”Proc.Mat.Res.Soc.467。
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