Efect of Oxygen Annealing on Ferrroelectricity of BiFeO_3 Thin Films formed by Pulsed Laser Deposition-猫眼课题宝

氧退火对脉冲激光沉积BiFeO_3薄膜铁电性的影响

DOI：

发表时间：

2007

期刊：

Jpn. J. Appl. Phys. 46・6A

影响因子：

通讯作者：

中科院分区：

文献类型：

作者：

H-Y Go;N. Wakiya;H. Funakubo;K. Satoh;M. Kondo;J. A. Cross;K. Maruyama;N. Mizutani and K. Shinozaki