H. Hamamura, R. Yamamoto, H. Komiyama, and Y. Shimogaki: "Low resistivity TiN films at low deposition temperature using flow modulation chemical vapor deposition (FMCVD)"Proc. Advanced Metallization Conference. 283-287 (2000)
H. Hamamura, R. Yamamoto, H. Komiyama, and Y. Shimogaki: "Low resistivity TiN films at low deposition temperature using flow modulation chemical vapor deposition (FMCVD)"Proc. Advanced Metallization Conference. 283-287 (2000)
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H. Hamamura、R. Yamamoto、H. Komiyama 和 Y. Shimogaki：“使用流量调制化学气相沉积 (FMCVD) 在低沉积温度下形成低电阻率 TiN 薄膜”Proc。
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