半回分操作によるシリカカプセル外表面上への選択的ZIF-8膜形成
半回分操作によるシリカカプセル外表面上への選択的ZIF-8膜形成
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通过半间歇操作在二氧化硅胶囊的外表面上选择性形成 ZIF-8 薄膜
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
河田周英，島田大樹，大坪拓夢，谷屋啓太，日出間るり，堀江孝史，菰田悦之，市橋祐一，浅野 等，大村直人，鈴木 洋，西山 覚
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Pipat Na Ranong;Keita Taniya;Chiaki Ogino;Yuichi Ichihashi;Satoru Nishiyama;河田周英，島田大樹，大坪拓夢，谷屋啓太，日出間るり，堀江孝史，菰田悦之，市橋祐一，浅野 等，大村直人，鈴木 洋，西山 覚
