Siウエハ上への水素フリーDLC膜の均一形成と微細パターン加工
Siウエハ上への水素フリーDLC膜の均一形成と微細パターン加工
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Si晶圆上无氢DLC薄膜的均匀形成及精细图案加工
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
細尾倫成,田上英人,須田善行,滝川浩史,川島貴弘,柴田隆行,神谷雅男,瀧真,長谷川祐史,サーレアブスアイリキ,辻信広
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Ueda;M. Fukuda;K. Hatanaka;A. Ishiyama and S. Noguchi;細尾倫成,田上英人,須田善行,滝川浩史,川島貴弘,柴田隆行,神谷雅男,瀧真,長谷川祐史,サーレアブスアイリキ,辻信広
